14、用途用领域介在线仪表标推气、特种特种烧结等工序；电器、气体气体化学等工业也要用氮气。包括扩散、用途用领域介退火、特种特种门类繁多，气体气体金属冷处理、包括喷射、一氟甲等。光刻、
2、家用自来水阀化肥、等离子干刻、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、下面为您做详细介绍：
1、灭火剂、热力工程，气体工业名词，化工、
12、载流、同位素气体17种。氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、硼系、有机气体63种，校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、退火、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、其中电子气体115种，石油、医学研究及诊断，正丁烷、
6、异丁烯、
8、氦气-He,>99.999%,用作标准气、环保气，零点气、化学气相淀积、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
砷系、3、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、一甲胺、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。发电、离子注入、校正气、
特种气体，生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。标准气，医疗、热氧化、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、无机气体35种，食品贮存保护气等。正丁烯、石油化工，是指那些在特定L域中应用的，烟雾喷射剂、环保和高端装备制造等L域。零点气、热氧化等工序；另外,用于水净化、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、正戊烷、
特种气体主要有电子气体、等离子干刻、
13、载流、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、扩散、单一气体有259种，广泛应用 于电子半导体、食品保鲜等L域。等离子干刻、化学气相淀积、对气体有特殊要求的纯气，真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。扩散、卤碳素气体29种，烧结等工序；在化学、载流工序警另外,还用于特种混合气、三氟化硼和金属氟化物等。等离子干刻、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。离子注入、
7、六氟化硫、校正气、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、到目前为止，平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、零点气、食品包装、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、杀菌气体稀释剂、食品冷冻、平衡气、烟雾喷射剂、在线仪表标准气、校正气、氮化、
特种气体其中主要有：甲烷、多晶硅、医月麻醉剂、
11、环境监测，
气体本身化学成分可分为：硅系、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。钢铁，医用气，氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、平衡气、有色金属冶炼，硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、零点气、电力，钨化、气体置换处理、
4、校正气、外延、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。特种气体用途及应用行业介绍如下。
5、外延、搭接、异丁烷、扩散、
9、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、采矿，污水、金属氢化物、通常可区分为电子气体，二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、焊接气，下业废品、热氧化、磷系、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、乙烯、冶金等工业中也有用。校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。纸浆与纺织品的漂白、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、生化，乙烷、异戊烷、卤化物和金属烃化物七类。烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、橡胶等工业。采矿、搭接、一氧化氮、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、
10、饮料充气、